咨询热线：13080701712
返回
沈宇动态
等离子干扰器对监控的效果
提供 一种相机模块，包括：层叠透镜结构，其中通过监控直接接合和层叠将带有透镜的基板（每个带透镜基板具有设置在形成于基板中的通孔内的透镜）接合并层叠，该层叠透镜结构包括多个光学单元具有沿光轴方向层叠的多个透镜；以及设置在相邻的光学单元之间的吸光膜和阻挡板中的至少一个。
使用最近开发的超高速电子相机摄像头直接观察表面放电交流等离子体显示面板（PDP）运行期间从氙气发出的真空紫外线（VUV）射线。经证实，147 nm 和 173 nm VUV 射线同时从阴极和阳极发射。直接观察表明，阴极和阳极上方的 147 nm 和 173 nm 发射区域从间隙边缘向外延伸。
这些发射扩展被认为是由于壁电荷的积累而导致该区域上方的电场降低造成的。阳极上方的 147 和 173 nm 发射强度比阴极上方的衰减更快。研究表明，阴极和阳极上方的 VUV 射线衰减特性的差异是由阴极和阳极上方的壁电荷累积率的差异引起的。讨论了与 147 nm 发射相关的氙共振态 Xe(1s 4 ) 和与 173 nm 发射相关的氙分子态 Xe 2Y* 的生成的主要反应。
使用最近开发的超高速电子相机摄像头直接观察表面放电交流等离子体显示面板（PDP）运行期间从氙气发出的真空紫外线（VUV）射线。经证实，147 nm 和 173 nm VUV 射线同时从阴极和阳极发射。直接观察表明，阴极和阳极上方的 147 nm 和 173 nm 发射区域从间隙边缘向外延伸。
这些发射扩展被认为是由于壁电荷的积累而导致该区域上方的电场降低造成的。阳极上方的 147 和 173 nm 发射强度比阴极上方的衰减更快。研究表明，阴极和阳极上方的 VUV 射线衰减特性的差异是由阴极和阳极上方的壁电荷累积率的差异引起的。讨论了与 147 nm 发射相关的氙共振态 Xe(1s 4 ) 和与 173 nm 发射相关的氙分子态 Xe 2Y* 的生成的主要反应。
